40 CFR Part 98, Table I-20
Verified against eCFR.gov as of June 20, 2026View official text on eCFR.gov ↗
| Process type/sub-type | Process gas i |
|---|---|
| CF4 | C2 F6 | CHF3 | CH2 F2 | CH3 F | C3 F8 | C4 F8 | NF3 | SF6 | C4 F6 | C5 F8 | C4 F8 O |
Etching/Wafer Cleaning
| 1-Ui | 0.68 | 0.8 | 0.35 | 0.15 | 0.34 | 0.3 | 0.16 | 0.17 | 0.28 | 0.17 | 0.1 | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | 0.21 | 0.073 | 0.02 | 0.038 | 0.21 | 0.045 | 0.035 | 0.0072 | 0.034 | 0.11 | NA |
| BC2 F6 | 0.041 | NA | 0.04 | 0.0065 | 0.0064 | 0.18 | 0.03 | 0.038 | 0.0017 | 0.025 | 0.083 | NA |
| BC4 F6 | 0.0015 | NA | 0.0001 | NA | 0.001 | NA | 0.00083 | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC4 F8 | 0.0051 | NA | 0.00061 | NA | 0.007 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.00012 | NA |
| BC5 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BCHF3 | 0.0056 | NA | NA | 0.033 | 0.0049 | 0.012 | 0.029 | 0.0065 | 0.0012 | 0.019 | 0.0069 | NA |
| BCH2 F2 | 0.014 | NA | 0.0026 | NA | 0.0023 | NA | 0.0014 | 0.00086 | 0.00002 | 0.00003 | NA | NA |
| BCH3 F | 0.00057 | NA | 0.12 | NA | NA | 0.00073 | NA | NA | 0.0082 | NA | NA | NA |
Chamber Cleaning
In situ plasma cleaning
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.2 | NA | NA | NA | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.037 | NA | NA | NA | NA |
| BC2 F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
Remote plasma cleaning
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | 0.063 | NA | 0.018 | NA | NA | NA | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.038 | NA | NA | NA | NA |
| BC2 F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BCHF3 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.000059 | NA | NA | NA | NA |
| BCH2 F2 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.0016 | NA | NA | NA | NA |
| BCH3 F | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.0028 | NA | NA | NA | NA |
In situ thermal cleaning
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.28 | NA | NA | NA | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.01 | NA | NA | NA | NA |
| BC2 F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
[89 FR 31923, Apr. 25, 2024]